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大氣等離子清洗機是通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體,從而利用這些活性組分的性質進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質,實現清潔、改性、刻蝕等目的的設備。以下是對大氣等離子清洗機的詳細介紹:1.基本原理:等離子清洗機通過對工藝氣體施加電場使其電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括離子、電子、原子、自由活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。2.主要功能:利用等離子體的活性組分進行氧化、還原、裂解、交聯和聚合等物理和化學反應,改變樣品表面...
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隨著科技的不斷進步和工業(yè)生產的發(fā)展,對產品表面的要求也越來越高。傳統清洗方法如水沖洗或溶劑浸泡雖然可以去除部分污染物,但其效果有限且易造成二次污染。為了滿足市場需求以及確保產品質量,等離子清洗機使用先進的等離子技術,在實現高效清潔同時能夠改善產品表面性能。等離子清洗機通過在真空環(huán)境下產生穩(wěn)定強大的等離子體,將氧、氫、氮、氬等原子與分解后各類雜質反應生成無害物質,并利用電場作用將附著于產品表面上固態(tài)雜質打散并排斥掉。這種激活處理過程不僅去除了細微塵埃顆粒、油脂和化學殘留物,還能...
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隨著工業(yè)生產的不斷發(fā)展,對產品表面的清潔要求越來越高。而傳統的清洗方法往往無法滿足需求,因此需要一種更加高效、可靠的表面清潔技術。在這個背景下,等離子清洗機應運而生,它通過利用氣體放電所產生的活性基團或粒子鱗片來實現表面去污和活化處理,并具有高效、多功能、環(huán)保及節(jié)能等優(yōu)勢。一、原理與工作方式等離子清洗機是利用氣體放電所產生的等離子體來實現對物體表面進行高效去污和活化處理。具體而言,在設備內部加入適當氣體并施加較大功率電場時,可以使氣體分解成帶有活化態(tài)基團或粒子鱗片,并釋放出巨...
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等離子去膠機(PlasmaDe-scummingMachine)是一種環(huán)保的半導體制程前減薄過程中清洗化學機械研磨殘膠的設備,主要應用于集成電路制造業(yè)、光電子工業(yè)及液晶顯示器行業(yè)。等離子去膠機以氣體放電為驅動力,在實驗室里常用非惰性氣體,如純氧、氮和氦。經過電離處理而產生的活性物質,可以將表面染料(Organiccontaminants)分解為無毒性分子,去除表面膠片使得后續(xù)工序不會受到殘留雜質污染。等離子態(tài)(PlasmaState),是由電子與離子(或大分子)相互作用產生的...
6-29
真空等離子清洗機是一種先進的清潔設備,主要作用是在真空環(huán)境下利用高能電子碰撞和激發(fā)氣體分子,產生等離子體。這些高能等離子體具有強大的化學活性和清潔能力,可以將表面附著的有機物、油脂、灰塵等污染物分解、氧化或脫附。同時等離子體還能消除靜電,改善物體的表面性質,提高材料的粘附性和潤濕性。廣泛應用于各個領域,包括半導體、光電、醫(yī)療器械等。它利用高能等離子體產生的化學反應和物理作用,能夠高效地去除表面污染物和有機殘留物,為物體提供清潔效果。通過了解其作用、優(yōu)點和安全使用要求,我們可以...
6-15
隨著制造業(yè)的發(fā)展,各種工業(yè)生產需要使用到大量化學物質和液體溶劑。這些物質在生產過程中可能會殘留在產品表面或設備內部,對人類健康和環(huán)境保護帶來極大威脅。因此,在現代工業(yè)制造中,如何通過科學技術手段實現清洗、去污染已經成為了重要任務之一。作為目前先進的清洗設備之一的等離子清洗機,由于其優(yōu)異的性能優(yōu)勢,在眾多領域得到了廣泛應用。一、等離子清洗機是什么?該設備是利用氣體放電等原理進行表面處理及材料改性的裝置。它采用高頻交流電源將惰性氣體轉化為等離子態(tài),并加速釋放出來形成“冷火焰”,再...
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等離子清洗機中常用的工藝氣體包括氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、氫氣、四氟化碳等。它利用氣體電離產生的等離子體對工件表面進行處理。不同的工藝氣體會被用來達到最佳的處理效果,那么等離子清洗機中常用的工藝氣體如何選擇呢?氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學處理方式。電離后產生的離子可以物理轟擊表面,形成粗糙的表面。同時,高活性氧離子可以與斷裂的分子鏈發(fā)生化學反應,形成活性基團的親水表面,從而達到表面活化的目的。有機污染物的元素在斷鍵后會與高活性氧離子發(fā)生化學反應,形成一氧化...
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隨著現代工業(yè)的不斷發(fā)展,越來越多的材料需要經過去膠處理。傳統的化學方法雖然有一定效果,但同時也帶來了許多負面影響,如對人體健康和環(huán)境造成污染等問題。為此,科技專家們研發(fā)出了一種全新的設備——等離子去膠機。工作原理等離子去膠機是利用氧分解產生物理損傷作用以達到清除粘結劑或其他類似材料所采用的設備。它通過將空氣中電場能量轉換成化學反應活性能量,在較低溫度下就可清除黃拋、灰拋及其他類型強粘附層。等離子去膠技術優(yōu)勢與傳統化學方法相比,使用等離子技術進行粘合物脫落具有以下優(yōu)點:(1)無...
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光學水滴角測量儀是一種廣泛應用于表面張力、潤濕性以及材料表面特性研究的精密儀器。它利用光學原理和計算機技術,可以快速、準確地測量水滴在固體表面上的接觸角度,為表面化學、物理性質的分析提供了重要的數據支持。該儀器的主要部件包括高清晰度攝像頭、照明系統、平臺及注射針等,其中攝像頭和照明系統是最關鍵的組件。攝像頭通過高倍率的放大鏡將水滴與固體表面的接觸線顯微成像,照明系統則提供足夠強度的光源來保證影像的清晰度。另外,儀器還配備有一套精密注射針,用于向實驗樣品表面滴加液體。使用光學水...
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光學水滴角測量儀問世,大大提升表面科學的研究準確度和效率!水滴角是表面科學中非常重要的一個物理量,它反映了液體與固體表面之間的相互作用。在許多領域,如涂層、塑料、纖維等材料的制備和應用中,水滴角都扮演著至關重要的角色。例如,在汽車制造業(yè)中,表面潤滑劑、油漆和防腐劑的性能取決于其與汽車表面之間的相互作用力。而水滴角正是用來描述這種相互作用力的重要參數。傳統的水滴角測量方法通常是通過拍攝水滴在材料表面的形態(tài)進行分析,然后使用數學模型計算得到水滴角。然而,這種方法存在很大的局限性,...
5-29
在當今數字化時代,半導體技術成為現代科技領域的基石,其廣泛應用于計算機、移動設備、汽車、醫(yī)療器械等各個領域。而半導體生產過程中的關鍵環(huán)節(jié)——清洗技術也變得越來越重要。半導體等離子清洗機采用高科技等離子技術,能夠高效去除半導體芯片表面的污垢和雜質,為后續(xù)生產工藝提供了強有力的保障。半導體等離子清洗機是利用氧化物等離子體來進行清洗的。其主要的工作原理是通過電弧放電使得氧分子被激發(fā)產生等離子體,并在此基礎上生成氫氧根離子和氧離子,這些離子和氧化物反應后就可以形成高效的清洗劑。該清洗...